E2v，全球领先的高性能成像解决方案供应商，被选择为日本X射线自由电子激光（XFEL）项目SACLA(the SPring-8 Angstrom Compact free electron Laser)供应图像传感器，作为其新一代成像焦面的一部分。SACLA是世界上最紧凑的XFEL设备，已经于今年三月开始供世界各地的科学研究者使用。

      E2v的图像传感器探测由XFEL光束中的科学样本所散射的X射线，从这些散射的X射线中，科学家们可以“看”到蛋白质的原子结构以及其他纳米级的结构。该合同供应包括48个全新的项目一期器件，以及项目三期器件的开发，为此，e2v创建了定制High-Rho成像器件的设计。High-Rho设计意味着这些传感器的生产将会基于高电阻率硅片，并在高背面衬底偏置下工作以增加传感器内的耗尽深度。这使得传感器在红光及近红外线波段具有更高的量子效率而不会由于电荷分散而损失分辨率。该技术同样可应用于探测在硅片中吸收效率低的5-12 keV的软X射线。在这个项目中，High-Rho设计可以提高在更高能量段X射线的探测效率。High-Rho传感器的封装将会复制项目一期的成像传感器，同样由e2v生产，用50um像元分辨率组成100mm x 100mm的X射线敏感焦平面。项目一期和High-Rho成像传感器以每秒60帧的速率来采集光束中散射的2-12 keV X射线。

      Ivan Noy，e2v科学高性能成像解决方案市场经理，说道：我们非常高兴被选择为这个令人激动的，最新型的项目供应探测器。我们已经提供的传感器作为项目一期的一部分正在实验中扮演关键角色。在2012年3月到7月的第一个用户试验期中，SACLA接收并采纳的25份科学建议中超过一半使用了项目一期的多端口CCD。项目三期High-Rho成像传感器的开发将会带来更高的探测能力并再次助力进一步的科学发现。

      天禾沐电子与e2v已成功合作近二十年，致力于为国内用户提供各种CCD、CMOS器件和相关技术支持。如需了解产品详情，敬请来电、来邮垂询。